光刻机不管是DUV还是EUV，最难的就四大块：光源系统、反射镜系统、双工件台、最后到整机集成

光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。1）光源方面，DUV采用准分子激光器，技术掌握在Cymer和Gigaphoton手中，国内科益虹源打破垄断；EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来，高功率激光器为核心组件。2）光学系统是光刻机分辨率成像的保证，由照明系统和物镜系统构成，照明系统优化成像过程，实现分辨率增强；投影物镜系统将掩模图形聚焦成像，ZEISS为ASML关键光学元件独供商，国内技术水平仍有较大差距。3）双工件台系统有效提高了光刻精度与效率，国内华卓精科和清华大学团队走在前列。

双工件台：超高精度超真空双工件台

超高精度超真空双工件台（DUV）:ASML(荷)、佳能/尼康（日）、华卓精科（中）

超高精度超真空双工件台（EUV）:ASML(荷)

北京华卓精科

华卓精科成立于2012年，主营业务为集成电路制造装备及关键零部件的研发和产业化。目前产品包括光刻机双工件台及其衍生产品超精密运动平台、激光退火设备、晶圆键合设备等。

万业企业 完美对标张江 唯一属性对标 房地产+光刻机

互动易：万业企业作为上海半导体装备材料基金的主要LP，通过基金入股华卓精科，布局光刻机双工台核心设备 有强烈预期差