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中国第一台自主研发的干法刻蚀机就是北方华创的前身之一北方微电

中国第一台自主研发的干法刻蚀机就是北方华创的前身之一北方微电子在2005研发成功并交付的。还有,2016年,由北方微电子自主研发的国内首台12英寸14纳米FinFET ICP等离子硅刻蚀机NMC612D出货到上海集成电路研发中心,并在2019年12月成功帮助上海集成电路研发中心完成了14nm FinFET自对准双重图形相关工艺的自主开发。这里为IT之家小伙伴们解释一下,14nm FinFET自对准双重图形工艺,是目前主流的14nm FinFET制造中的关键工序,也是由DUV向极紫外光EUV光刻技术过渡需要用到的关键工艺。在那之前,半导体厂商们在这道工序上还没有用过国产设备,NMC612D可以说是填补了空白,也达到了世界先进的水平。目前,北方华创正在开展10nm刻蚀设备的研发进程,同时也在关注原子层刻蚀(ALE)技术的研发。目前,中国半导体产业正处于一个大规模建厂潮中,就国内刻蚀设备市场而言,成长的潜在空间也是巨大的。

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05月02日 09:25
来自财经客户端

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