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最新消息：光刻领域，掩膜版新面孔--莱宝高科

消息面：一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备专利公布

本发明涉及光刻领域，公开了一种掩膜装置

最新的光刻设备，新面孔，光刻属性被激发，今天半导体方向强的可以，同时它还有华为概念，消费电子方向，下周华为手机有最新动向，属性双吃，还是当下最热的方向，值得重点关注。

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11月08日 14:26

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