光刻机制造工艺段位分65.45.32.28.16.14.10.7.5.3
(纳米),荷兰ASML公司的EUV光刻机已能够生产出来7nm,甚至是5nm、3nm更高制程的芯片,差距不可谓不大。产生如此大的差距,并不是上海微电子不思进取,这里面的最为核心元器件一直被美国等西方国家把控着,比如说有瑞典的轴承、法国的阀件、美国的光源、德国的镜头……都是世界各领域顶级的科技产物。除此之外,还有一个原因,我们如果造出EUV光刻机等于成体系地打破了发达国家技术垄断,截断了它们谋取暴利的渠道,这也是他们无法接受的。近日,再度传出ASML的EUV光刻机突然任性地大幅度涨价,你也不得不硬着头皮买