ASML高管透露：到2025年，EUV光刻机占比将达到60%，国产高端光刻机攻克迫在眉睫！

众所周知，我国之所以芯片被人“卡脖子”，主要就是因为缺少高端光刻机。而全球能够生产EUV光刻机的只有荷兰的ASML，最近ASML高管预测，2025年极紫外光刻机将成为主流，所占比例将超过60%，所以留给我国的时间不多了。

虽然目前对于大多数领域来说，28nm的芯片已经够用，但随着时代的发展，对芯片的要求势必越来越高。而要想生产高制程芯片，EUV光刻机必不可少。

EUV光刻机之所以难以突破，是因为凝结了全球多个国家的先进技术，所以技术门槛很高。其实我们国家不是没有尝试过从ASML购买光刻机，ASML也想卖给我们，只可惜外国从中阻挠才一直没有实现。如果ASML指望不上，那就只能靠我们自己。

有人曾妄言，即使给我们图纸，我们也造不出顶级光刻机，事实真是如此吗？

虽然光刻机的零件多达10万个，供应商超过了5000家，但是光刻机的关键性技术，我们已经取得了突破。要想造出先进光刻机，需要三个核心部件：双工件台，EUV光源，EUV光学镜头。就在最近，我国在光源和光学镜头方面都取得了突破，双工作台技术也在去年打破了ASML的垄断，可见已经越来越接近EUV光刻机的核心了。

所以我们要对自己有信心，光刻机再复杂，也是人造出来的。不知道大家怎么看呢？