随着新能源汽车,自动驾驶,5G,虚拟现实等高新技术的飞速发展,对于高效率高性能的半导体器件的需求正在进入史无前例的时代。这些新的应用需求正在不断推动半导体器件制造商大量投入进行新材料以及新器件的研发,并且对更加复杂的器件进行良率提升以及质量管控。
半导体未来:TEM技术不可或缺
以SiC和GaN为代表的第三代化合物半导体,因其独特的物理性质,正在取代硅基器件,成为驱动技术创新的有力支点。以这些新材料为主体的新型器件正在开始被广泛应用于功率转换,射频通信,以及光电输出等领域。另外,以VR/AR为代表的应用领域,正在推动显示技术的革新,并且占据“元宇宙”的风口浪尖,成为未来人们获取并体验数据的全新通道。而新的显示技术,例如微LED(micro-LED),被公认为下一代技术节点,正在努力攻克良率提升及降低生产成本的重要课题。
这些新技术在研发及生产方面所面临的挑战往往需要对新材料新器件结构进行原子级别的量测与表征分析,也就对高质量高效率的TEM(透射电镜)有了更高的需求。器件结构的量测往往需要将常见的TEM图像失真降到最低,并且要求设备的自动化程度高,易用性高,使操作人员可以提供尽可能高的数据可重复性和可再现性。同时,对于设备的多样化能力,例如高效准确的EDS能谱分析,也为TEM成像提供了更加丰富的能力。
针对这些挑战与需求,赛默飞世尔科技为半导体生产商精心打造了业内为人熟知的Talos F200E透射电镜。自问世以来,Talos F200E透射电镜已成为下一代半导体器件的研发与良率提升的独特的解决方案,成为解决各种失效难题的“利刃”。
6月9日14:00-15:00,赛默飞为大家带来一场深度的线上分享——“追本溯源--TEM如何助力化合物半导体及显示技术的良率提升及研发”,欢迎工程师同学们注册观看:
线上直播主题报告预告
追本溯源--TEM如何助力化合物半导体及显示技术的良率提升及研发
本报告讲着重介绍TEM的基本原理,并结合实际案例展示透射电子显微镜如何在化合物半导体(SiC/GaN/InGaAs)及显示领域(OLED, MicroLED etc.)助力客户提高良率、改进性能。
主讲嘉宾:曹潇潇
赛默飞世尔科技PFA高级业务拓展经理
曹潇潇,赛默飞世尔公司MSD半导体事业部资深业务拓展经理。2007年毕业于合肥工业大学材料学院,获得学士学位;2007-2010年在上海大学,师从我国著名的电子显微学家周邦新院士,获得硕士学位。曹潇潇具有14年电子显微镜行业工作经验。作为主要负责人,参与了中国首台镜筒内置能量过滤透射电子显微镜、三维原子探针3DAP、X射线显微镜等先进设备的部署和应用开发工作。目前致力于先进电子显微技术在半导体芯片研发及良率提升阶段的推广。
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