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【阿斯麦展出新型“High NA EUV

【阿斯麦展出新型“High NA EUV”设备】荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)当地时间2月9日在阿斯麦的荷兰总部首次展出一台新型“High NA EUV”光刻机。该公司称,这款设备耗资3.5亿美元,主要面向英特尔等高端半导体制造商。阿斯麦预计今年将出货一部分,但在定制和安装方面仍有工作要做。

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02月11日 23:05
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